发明授权
- 专利标题： 一种实现高功率脉冲和大电流磁控溅射镀膜功能的电路设备及控制方法
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申请号： CN201410063876.0申请日： 2014-02-25
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公开(公告)号： CN103774111B公开(公告)日： 2016-01-13
- 发明人: 饶益花 , 陈文光
- 申请人： 南华大学 , 饶益花
- 申请人地址： 湖南省衡阳市常胜西路28号
- 专利权人： 南华大学,饶益花
- 当前专利权人： 南华大学,饶益花
- 当前专利权人地址： 湖南省衡阳市常胜西路28号
- 代理机构： 湖南省国防科技工业局专利中心
- 代理商 冯青
- 主分类号： C23C14/35
- IPC分类号： C23C14/35 ; C23C14/54 ; H02M1/092
摘要：
本发明涉及一种实现高功率脉冲和大电流磁控溅射镀膜功能的电路设备及控制方法。本设备采用大功率半导体开关管，通过控制这些半导体功率器件的开通与断开状态来改变直流磁控溅射电源的串联放电方式，实现脉冲放电和电压的放大。从而在磁控溅射镀膜机上实现电压幅值、脉冲宽度可以任意设置输出的高功率脉冲溅射镀膜，也可以在不改变主电路接线的情况下实现多个直流电源同步大电流磁控溅射镀膜。
公开/授权文献
- CN103774111A 一种实现高功率脉冲和大电流磁控溅射镀膜功能的电路设备及控制方法 公开/授权日：2014-05-07
IPC分类:
