发明公开
- 专利标题: 凹版制版中二次补充雕刻方法
- 专利标题(英): Secondary supplement engraving method in gravure plate-making
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申请号: CN201410041178.0申请日: 2014-01-28
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公开(公告)号: CN103832049A公开(公告)日: 2014-06-04
- 发明人: 郭俊峰
- 申请人: 太仓丽盛制版有限公司
- 申请人地址: 江苏省苏州市太仓市浏河镇南海路28号
- 专利权人: 太仓丽盛制版有限公司
- 当前专利权人: 太仓丽盛制版有限公司
- 当前专利权人地址: 江苏省苏州市太仓市浏河镇南海路28号
- 代理机构: 苏州创元专利商标事务所有限公司
- 代理商 孙仿卫; 项丽
- 主分类号: B41C1/04
- IPC分类号: B41C1/04
摘要:
本发明涉及一种凹版制版中二次补充雕刻方法,依次包括以下步骤:(a)确定版辊起雕的横向位置:将需要补雕的版辊装在电雕机上,移动雕针使其与试雕块横向第一排网格中心重合;(b)确定版辊起雕的周向位置:调整雕针与试雕块横向第一排网格的距离使其与原版辊上的试雕块横向第一排网格的距离一致;(c)补雕:在需要补雕的版辊上补充雕刻所要增加的图案。本发明通过移动雕针使其与试雕块横向第一排网格中心重合并且调整雕针与试雕块横向第一排网格的距离使其与原版辊上的试雕块横向第一排网格的距离一致,能够准确确定二次补充雕刻的位置,避免漏缝和图案重叠的现象,减小返工概率,节约了成本和时间,缩短了交货期。
公开/授权文献
- CN103832049B 凹版制版中二次补充雕刻方法 公开/授权日:2015-09-23