发明公开
- 专利标题: 晶圆级应用的RF屏蔽部
- 专利标题(英): Wafer level applied RF shields
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申请号: CN201280049911.2申请日: 2012-10-09
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公开(公告)号: CN103858227A公开(公告)日: 2014-06-11
- 发明人: 克拉克·戴维 , 西奥多·G·特斯耶尔
- 申请人: 弗利普芯片国际有限公司
- 申请人地址: 美国亚利桑那州
- 专利权人: 弗利普芯片国际有限公司
- 当前专利权人: 华天科技(昆山)电子有限公司
- 当前专利权人地址: 美国亚利桑那州
- 代理机构: 北京康信知识产权代理有限责任公司
- 代理商 余刚; 李静
- 优先权: 61/546,862 2011.10.13 US
- 国际申请: PCT/US2012/059387 2012.10.09
- 国际公布: WO2013/055700 EN 2013.04.18
- 进入国家日期: 2014-04-10
- 主分类号: H01L23/60
- IPC分类号: H01L23/60 ; H05K9/00
摘要:
根据本发明的一种在集成电路芯片上形成芯片上型RF屏蔽部的方法的一个实施例包括:提供单个化之前的具有前侧和背侧的晶圆级集成电路部件晶圆;在晶圆的背侧上施加树脂金属层;以及将晶圆分离成分立的RF屏蔽部件。在单个化,即,在将晶圆分离成分立的RF屏蔽部件之后,位于背侧上的树脂金属层有效地用作RF屏蔽部。
IPC分类: