Invention Grant
- Patent Title: 用于在基板上沉积原子层的方法及装置
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Application No.: CN201280049602.5Application Date: 2012-07-30
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Publication No.: CN103874783B9Publication Date: 2016-07-27
- Inventor: 雷蒙德·詹考伯斯·威廉姆斯·克纳彭 , 鲁德·奥利斯拉格斯 , 丹尼斯·范·德·伯格曼 , 马蒂斯·C·范·德·伯 , 迪德里科·简·玛斯 , 雅克·科尔·乔安·范·德·东克 , 弗雷迪·罗泽博姆
- Applicant: 荷兰应用科学研究组织
- Applicant Address: 荷兰代尔夫特
- Assignee: 荷兰应用科学研究组织
- Current Assignee: 荷兰应用科学研究组织
- Current Assignee Address: 荷兰代尔夫特
- Agency: 北京德琦知识产权代理有限公司
- Agent 周艳玲; 王琦
- Priority: 11177166.3 2011.08.10 EP
- International Application: PCT/NL2012/050540 2012.07.30
- International Announcement: WO2013/022339 EN 2013.02.14
- Date entered country: 2014-04-09
- Main IPC: C23C16/44
- IPC: C23C16/44 ; C23C16/52 ; C23C16/54 ; C23C16/455 ; C23C16/458
Abstract:
一种在基板上沉积原子层的方法。所述方法包括从可以是可旋转鼓状物的一部分的沉积头的前驱气体供应器供应前驱气体。所述前驱气体供应器对基板提供前驱气体。所述方法还包括通过沿着所述基板旋转所述沉积头来移动所述前驱气体供应器，接着所述基板沿着旋转鼓状物移动。所述方法还包括在以下两者之间切换：在旋转轨道的第一部分上从前驱气体供应器对基板供应所述前驱气体；以及在旋转轨道的第二部分上中断从前驱气体供应器供应所述前驱气体。
Public/Granted literature
- CN103874783B 用于在基板上沉积原子层的方法及装置 Public/Granted day:2016-03-09
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IPC分类:
