发明授权
- 专利标题： 磁控溅射镀膜装置
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申请号： CN201210588533.7申请日： 2012-12-29
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公开(公告)号： CN103898462B公开(公告)日： 2017-08-22
- 发明人: 张春杰
- 申请人： 深圳富泰宏精密工业有限公司
- 申请人地址： 广东省深圳市宝安区龙华镇富士康科技工业园F3区A栋
- 专利权人： 深圳富泰宏精密工业有限公司
- 当前专利权人： 纳狮新材料有限公司
- 当前专利权人地址： 广东省深圳市宝安区龙华镇富士康科技工业园F3区A栋
- 代理机构： 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司
- 代理商 习冬梅
- 主分类号： C23C14/35
- IPC分类号： C23C14/35
摘要：
本发明提供一种磁控溅射镀膜装置，包括真空室体、形成于该真空室体内的真空室、设置于真空室内的至少一磁控靶，该磁控溅射镀膜装置还包括设置于该真空室内与所述磁控靶一一对应的屏蔽装置，每一屏蔽装置包括二屏蔽罩，该二屏蔽罩对称设置于相应的磁控靶的两侧，以遮挡镀膜时磁控靶的散射粒子，避免散射粒子绕镀至工件不需要镀膜的部分。
公开/授权文献
- CN103898462A 磁控溅射镀膜装置 公开/授权日：2014-07-02
IPC分类:
