Invention Grant
- Patent Title: 一种新型射流冲击冷却的气化工艺烧嘴
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Application No.: CN201410037925.3Application Date: 2014-01-26
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Publication No.: CN103937553BPublication Date: 2015-10-21
- Inventor: 赵钦新 , 陈衡 , 王云刚 , 严俊杰 , 梁志远 , 李钰鑫 , 马海东
- Applicant: 西安交通大学
- Applicant Address: 陕西省西安市咸宁路28号
- Assignee: 西安交通大学
- Current Assignee: 西安交通大学
- Current Assignee Address: 陕西省西安市咸宁路28号
- Agency: 西安智大知识产权代理事务所
- Agent 何会侠
- Main IPC: C10J3/50
- IPC: C10J3/50
Abstract:
一种新型射流冲击冷却的气化工艺烧嘴,包括中心气化剂通道,与其同轴并依次套装在其外的燃料通道和外气化剂通道,布置在中心气化剂通道和燃料通道之间、燃料通道和外气化剂通道之间以及外气化剂通道外侧的冷却水通道;冷却水通道由进水通道和回水通道组成,在进水通道内布置有冷却水均匀分布装置;进水通道和回水通道之间通过进水通道的下部通道上的若干密排圆孔相连通;高压冷却水进入进水通道后从进水通道下部通道上的若干密排圆孔以射流的形式,冲击喷射到回水通道的壁面上,对其进行高效冷却,然后从回水通道流到冷却水通道的出水口;本发明克服现有技术的气化烧嘴技术的烧嘴冷却效果差、寿命较短的缺陷。
Public/Granted literature
- CN103937553A 一种新型射流冲击冷却的气化工艺烧嘴 Public/Granted day:2014-07-23
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