发明授权
- 专利标题： 高性能选择性吸收处理膜的形成方法
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申请号： CN201310573656.8申请日： 2013-11-15
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公开(公告)号： CN103966589B公开(公告)日： 2017-07-28
- 发明人: 黑田纯 , 松本徹 , 谷生美典
- 申请人： 矢崎能源系统公司
- 申请人地址： 日本东京都
- 专利权人： 矢崎能源系统公司
- 当前专利权人： 矢崎能源系统公司
- 当前专利权人地址： 日本东京都
- 代理机构： 北京奉思知识产权代理有限公司
- 代理商 吴立; 邹轶鲛
- 优先权： 2013-011219 20130124 JP
- 主分类号： C23C22/24
- IPC分类号： C23C22/24 ; F24J2/48
摘要：
本发明涉及一种能够在金属基板的表面形成集热特性良好的选择性吸收面的利用太阳能的集热器的选择性吸收面的形成方法和基于该方法形成的选择性吸收处理膜，该选择性吸收面的形成方法的特征在于中，通过将金属基板浸渍在含有硫酸和重铬酸钠或硫酸和铬酐的化学转化处理液中而在上述金属基板表面形成选择性吸收面，该化学转化处理液含有含氧酸的金属盐或氢卤酸的金属盐。
公开/授权文献
- CN103966589A 高性能选择性吸收处理膜的形成方法 公开/授权日：2014-08-06
IPC分类:
