发明授权
- 专利标题: 固体电子装置
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申请号: CN201280058844.0申请日: 2012-10-25
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公开(公告)号: CN103999207B公开(公告)日: 2017-07-28
- 发明人: 下田达也 , 德光永辅 , 尾上允敏 , 宫迫毅明
- 申请人: 国立研究开发法人科学技术振兴机构
- 申请人地址: 日本埼玉县川口市
- 专利权人: 国立研究开发法人科学技术振兴机构
- 当前专利权人: 国立研究开发法人科学技术振兴机构
- 当前专利权人地址: 日本埼玉县川口市
- 代理机构: 北京北翔知识产权代理有限公司
- 代理商 杨勇; 钟守期
- 优先权: 2011-245915 20111109 JP
- 国际申请: PCT/JP2012/077623 2012.10.25
- 国际公布: WO2013/069470 JA 2013.05.16
- 进入国家日期: 2014-05-29
- 主分类号: H01L21/822
- IPC分类号: H01L21/822 ; H01L21/316 ; H01L27/04
摘要:
本发明的一个固体电子装置具备包含铋(Bi)和铌(Nb)的氧化物层(可以包含不可避免的杂质),其中,所述氧化物层通过将前躯体层在含氧气氛中加热而形成,所述前躯体层将前躯体溶液作为原料,所述前躯体溶液将包含所述铋(Bi)的前躯体及包含所述铌(Nb)的前躯体作为溶质,并且用于形成所述氧化物层的加热温度为520℃以上且650℃以下。
公开/授权文献
- CN103999207A 固体电子装置 公开/授权日:2014-08-20
IPC分类: