发明公开
- 专利标题: 一种提高近红外高反膜激光损伤阈值的方法
- 专利标题(英): Method for improving laser damage threshold of near-infrared high-reflective film
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申请号: CN201410050291.5申请日: 2014-02-13
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公开(公告)号: CN104032266A公开(公告)日: 2014-09-10
- 发明人: 程鑫彬 , 阿卜杜萨拉木·图尼亚孜 , 焦宏飞 , 鲍刚华 , 王占山
- 申请人: 同济大学
- 申请人地址: 上海市四平路1239号
- 专利权人: 同济大学
- 当前专利权人: 同济大学
- 当前专利权人地址: 上海市四平路1239号
- 主分类号: C23C14/30
- IPC分类号: C23C14/30 ; C23C14/08 ; C23C14/54
摘要:
本发明涉及一种提高光学薄膜损伤阈值的设计方法,该方法属于薄膜光学领域,主要针对高反射膜中影响损伤阈值的最主要的缺陷-节瘤缺陷。节瘤缺陷的阈值决定整个薄膜的阈值。目前提高高反膜激光损伤阈值的技术手段主要通过消除节瘤,即尽可能的降低节瘤密度和尺寸来提升薄膜的阈值。但是在目前的技术条件下,消除节瘤需要的工艺难度大,需要的成本高,而且无法完全消除。本发明提出了一种直接提高节瘤阈值从而提升薄膜阈值的方法。理论和实践已经证明,电场在节瘤损伤特性中起很重要的角色,而节瘤中的电场与节瘤的几何特性和光谱特性信息相关。通过改变膜系设计来降低节瘤中的电场强度,从而提高节瘤的损伤阈值。此方法具有针对性强,效率高,简单易行的特点。
公开/授权文献
- CN104032266B 一种提高近红外高反膜激光损伤阈值的方法 公开/授权日:2017-10-17
IPC分类: