发明授权
- 专利标题： 保护电解池侧壁的系统和方法
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申请号： CN201410093321.0申请日： 2014-03-13
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公开(公告)号： CN104047025B公开(公告)日： 2017-10-13
- 发明人: 刘兴华 , 小D·A·韦劳奇 , F·E·菲尔普斯 , J·M·戴尼斯 , J·克尔克霍夫 , R·A·迪米利亚
- 申请人： 美铝美国公司
- 申请人地址： 美国宾夕法尼亚州
- 专利权人： 美铝美国公司
- 当前专利权人： 美铝美国公司
- 当前专利权人地址： 美国宾夕法尼亚州
- 代理机构： 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理商 林振波
- 优先权： 61/780,493 20130313 US
- 主分类号： C25C3/00
- IPC分类号： C25C3/00 ; C25C7/00 ; C25C3/06 ; C25C3/08
摘要：
本发明涉及电解池、电解池组件、电解池系统和保护电解池侧壁的方法。电解池系统包括：被设置用于保留熔融电解液的电解池，所述电解液包括至少一种电解液成分，所述电解池包括底部和基本上由所述至少一种电解液成分构成的侧壁；以及进料系统，被设置用于向熔融电解液提供包括所述至少一种电解液成分的进料，以使所述至少一种电解液成分处于约2％的饱和度以内，其中，侧壁通过进料而在熔融电解液内保持稳定。
公开/授权文献
- CN104047025A 保护电解池侧壁的系统和方法 公开/授权日：2014-09-17