Invention Grant
CN104129171B 绘制控制方法和激光照射设备
失效 - 权利终止
- Patent Title: 绘制控制方法和激光照射设备
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Application No.: CN201410377842.9Application Date: 2010-10-14
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Publication No.: CN104129171BPublication Date: 2016-10-05
- Inventor: 小田美由纪
- Applicant: 株式会社理光
- Applicant Address: 日本东京都
- Assignee: 株式会社理光
- Current Assignee: 株式会社理光
- Current Assignee Address: 日本东京都
- Agency: 北京银龙知识产权代理有限公司
- Agent 许静; 李家浩
- Priority: 2009-240398 2009.10.19 JP; 2010-202723 2010.09.10 JP
- The original application number of the division: 2010800465969 2010.10.14
- Main IPC: B41J3/01
- IPC: B41J3/01 ; B41J2/435
Abstract:
提供一种绘制控制方法和激光照射设备。该绘制控制方法通过计算机控制绘制将被绘制到介质表面的多个单位区域上的对象的绘制装置，其中计算机执行绘制顺序确定步骤，该绘制顺序确定步骤确定在将被绘制的对象中包括的线段的绘制顺序，使得相互邻接的多个单位区域上的多个连续线段被连续绘制。
Public/Granted literature
- CN104129171A 绘制控制方法和激光照射设备 Public/Granted day:2014-11-05
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IPC分类:
