- 专利标题： 偏振束合成/分离器、偏振束合成/分离结构、光混合器、光学调制器模块和制造偏振束合成/分离器的方法
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申请号： CN201280071490.3申请日： 2012-11-15
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公开(公告)号： CN104169762B公开(公告)日： 2017-12-08
- 发明人: 山崎裕幸
- 申请人： 日本电气株式会社
- 申请人地址： 日本东京
- 专利权人： 日本电气株式会社
- 当前专利权人： 日本电气株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京
- 代理机构： 中原信达知识产权代理有限责任公司
- 代理商 鲁山; 孙志湧
- 优先权： 2012-060509 2012.03.16 JP
- 国际申请： PCT/JP2012/007338 2012.11.15
- 国际公布： WO2013/136393 JA 2013.09.19
- 进入国家日期： 2014-09-16
- 主分类号： G02B6/122
- IPC分类号： G02B6/122 ; G02F1/01 ; G02F2/00 ; H04B10/556 ; H04B10/61
摘要：
本发明提供一种具有极好的偏振束合成/分离特性的偏振束合成/分离器、偏振束合成/分离结构、光混合器、光学调制器模块和制造偏振束合成/分离器的方法。偏振束合成/分离器(100)具有偏振束合成/分离膜(1)，其位于基板(101)上，并且允许TE光(11)通过并且使TM光(12)分支。在基板(101)上形成光波导(WG1)，其端表面面对偏振束合成/分离膜(1)的第一表面，并且其波导方向与TE光(11)的传播方向重合。在基板(101)上形成光波导(WG2)，其端表面面对偏振束合成/分离膜(1)的第二表面，并且其波导方向与TM光(12)的传播方向重合。
公开/授权文献
- CN104169762A 偏振束合成/分离器、偏振束合成/分离结构、光混合器、光学调制器模块和制造偏振束合成/分离器的方法 公开/授权日：2014-11-26
