发明授权
- 专利标题: 具有弯曲表面缺陷的微光学器件的制造方法
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申请号: CN201380017479.3申请日: 2013-03-05
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公开(公告)号: CN104204944B公开(公告)日: 2018-07-17
- 发明人: 丁飞 , U·T·迪里希 , A·W·科诺尔 , R·F·马特 , T·H·斯托福尔
- 申请人: 国际商业机器公司
- 申请人地址: 美国纽约
- 专利权人: 国际商业机器公司
- 当前专利权人: 国际商业机器公司
- 当前专利权人地址: 美国纽约
- 代理机构: 北京市中咨律师事务所
- 代理商 牛南辉; 于静
- 优先权: 1205552.1 2012.03.29 GB
- 国际申请: PCT/IB2013/051737 2013.03.05
- 国际公布: WO2013/153465 EN 2013.10.17
- 进入国家日期: 2014-09-28
- 主分类号: G03F7/00
- IPC分类号: G03F7/00
摘要:
一种微光学器件(1)的制造方法,所述方法包括:‑提供材料层(300);‑用纳米尺度尺寸探针,通过局部地解链和/或解吸其分子,构图所述材料层,以获得材料层的弯曲表面(s2),所述弯曲表面具有在至少平面剖面((y,z)(x,z))中的弯曲轮廓(21、21’、22);以及‑包括通过提供一个或多个与所述弯曲表面接触的另外的材料层完成层结构,以获得所述微光学器件(1),后者具有所述层结构,所述层结构的给定层(10)由此包括缺陷(20),所述缺陷被两个表面划界,其中,所述两个表面的一个为所述弯曲表面(s2),并且所述至少一个平面剖面((y,z)(x,z))垂直于所述层结构。
公开/授权文献
- CN104204944A 具有弯曲表面缺陷的微光学器件的制造方法 公开/授权日:2014-12-10