- 专利标题: 一种刻蚀装置、刻蚀系统及刻蚀终点探测方法
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申请号: CN201410412719.6申请日: 2014-08-20
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公开(公告)号: CN104217916B公开(公告)日: 2017-07-28
- 发明人: 庹文平 , 左志刚
- 申请人: 上海天马有机发光显示技术有限公司 , 天马微电子股份有限公司
- 申请人地址: 上海市浦东新区龙东大道6111号1幢509;
- 专利权人: 上海天马有机发光显示技术有限公司,天马微电子股份有限公司
- 当前专利权人: 上海天马有机发光显示技术有限公司,天马微电子股份有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市浦东新区龙东大道6111号1幢509;
- 代理机构: 北京同达信恒知识产权代理有限公司
- 代理商 刘松
- 主分类号: H01J37/32
- IPC分类号: H01J37/32 ; H01L21/67
摘要:
本发明公开了一种刻蚀装置、刻蚀系统及刻蚀终点探测方法,用以解决现有技术中存在刻蚀装置稼动率低以及刻蚀终点检测不准确的问题。方法为,在刻蚀装置的终点探测窗口中添加终点探测窗口保护结构以及终点探测窗口保护结构驱动装置,当刻蚀装置中进行的刻蚀过程的刻蚀终点到达时,通过终点探测窗口保护结构驱动装置驱动终点探测窗口保护结构遮挡探测窗,从而保护了探测窗不受过刻过程中刻蚀气体的腐蚀,延长了探测窗的使用寿命,保证了终点检测的准确性,提高了刻蚀装置的稼动率。
公开/授权文献
- CN104217916A 一种刻蚀装置、刻蚀系统及刻蚀终点探测方法 公开/授权日:2014-12-17