- 专利标题: 功能材料及其制备方法、三维显示光栅及显示装置
-
申请号: CN201410367829.5申请日: 2014-07-29
-
公开(公告)号: CN104231680B公开(公告)日: 2016-03-02
- 发明人: 杨久霞 , 白峰 , 冯鸿博
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- 代理商 柴亮; 张天舒
- 主分类号: C09C3/10
- IPC分类号: C09C3/10 ; C09C1/40 ; C09C1/28 ; C09C1/34 ; C09C1/00 ; C08L67/00 ; C08L29/04 ; C08K9/10 ; C09D7/12 ; C08G69/26 ; G02B5/18 ; G02B27/22
摘要:
本发明提供一种功能材料及其制备方法、三维显示光栅及显示装置,属显示技术领域,可解决现有三维显示装置存在污染的问题。本发明的功能材料包括带有改性层的无机混合粉末,无机混合粉末包括氧化硼、氧化钠、氧化锂、氧化锆、氧化铝、氧化锌、二氧化钛、二氧化硅、氧化钙、银络合物、磷酸银、硝酸银、电气石、硫代硫酸银、碳纳米管、硫酸铝、锰、锰的氧化物、铁、铁的氧化物、钴、钴的氧化物、镍、镍的氧化物、铬、铬的氧化物、铜、铜的氧化物、氧化镁、碳化硼、碳化硅、碳化钛、碳化锆、碳化钽、碳化钼、氮化硼、氮化铬、氮化钛、氮化锆、氮化铝、硼化铬、四硼化三铬、硼化钛、硼化锆、二硅化钨、二硅化钛等;改性层由二元酐和二元胺反应生成。
公开/授权文献
- CN104231680A 功能材料及其制备方法、三维显示光栅及显示装置 公开/授权日:2014-12-24