发明授权
CN104263248B 一种适用于低下压力的弱酸性铜抛光液
失效 - 权利终止
- 专利标题： 一种适用于低下压力的弱酸性铜抛光液
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申请号： CN201410505704.4申请日： 2014-09-26
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公开(公告)号： CN104263248B公开(公告)日： 2016-06-29
- 发明人: 顾忠华 , 潘国顺 , 龚桦 , 邹春莉 , 罗桂海 , 王鑫 , 陈高攀
- 申请人： 深圳市力合材料有限公司 , 清华大学 , 深圳清华大学研究院
- 申请人地址： 广东省深圳市南山区松白路西丽南岗第二工业园九栋一楼
- 专利权人： 深圳市力合材料有限公司,清华大学,深圳清华大学研究院
- 当前专利权人： 深圳市力合材料有限公司,清华大学,深圳清华大学研究院
- 当前专利权人地址： 广东省深圳市南山区松白路西丽南岗第二工业园九栋一楼
- 代理机构： 深圳市鼎言知识产权代理有限公司
- 代理商 哈达
- 主分类号： C09G1/02
- IPC分类号： C09G1/02
摘要：
本发明涉及一种适用于低下压力的弱酸性铜抛光液，属于微电子辅助材料及超精密加工工艺技术领域。该抛光液包含磨粒、氧化剂、去离子水、抑制剂、络合剂和硅溶胶稳定剂；该抛光液的pH值为5～7。本发明能够在低下压力(1psi以下)条件下实现铜抛光的高去除速率及高的表面精度，抛光后表面颗粒残留和离子污染少。
公开/授权文献
- CN104263248A 一种适用于低下压力的弱酸性铜抛光液 公开/授权日：2015-01-07
