发明公开
- 专利标题: 一种精细掩膜板张网过程分析方法
- 专利标题(英): Fine mask screening process analysis method
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申请号: CN201410515610.5申请日: 2014-09-29
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公开(公告)号: CN104281747A公开(公告)日: 2015-01-14
- 发明人: 嵇凤丽 , 玄明花 , 白珊珊 , 刘建涛 , 许静波
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- 代理商 彭瑞欣; 陈源
- 主分类号: G06F17/50
- IPC分类号: G06F17/50
摘要:
本发明公开了一种精细掩膜板张网过程分析方法,该分析方法基于ANSYS软件的仿真功能,通过建立精细掩膜板的有限元模型和金属框架的有限元模型,以寻找到合适的用于拉伸精细掩膜板的拉力以及使每一条精细掩膜板焊接在金属框架前对应施加在金属框架上真实对抗力,该分析过程无需进行实物测试,从而可有效避免精细掩膜板的损坏,进而有效的节约了测试成本。
公开/授权文献
- CN104281747B 一种精细掩膜板张网过程分析方法 公开/授权日:2018-01-30