Invention Grant
- Patent Title: 间歇式激光灼刻装置和间歇式激光灼刻方法
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Application No.: CN201410522063.3Application Date: 2014-09-30
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Publication No.: CN104308373BPublication Date: 2016-07-06
- Inventor: 肖明达 , 黄云海 , 蓝发兴
- Applicant: 北京志恒达科技有限公司
- Applicant Address: 北京市昌平区南邵镇何营路8号院科派产业基地6号楼
- Assignee: 北京志恒达科技有限公司
- Current Assignee: 北京志恒达科技有限公司
- Current Assignee Address: 北京市昌平区南邵镇何营路8号院科派产业基地6号楼
- Agency: 北京君恒知识产权代理事务所
- Agent 黄启行; 林月俊
- Main IPC: B23K26/402
- IPC: B23K26/402 ; B23K26/362 ; A22C17/10
Abstract:
本发明涉及一种间歇式激光灼刻装置和间歇式激光灼刻方法,其包括固定地设置在机架上的输送导轨、与输送导轨大致平行地设置在输送导轨的上方的输送链条、滑动地设置在输送导轨上的挂钩部件以及对灼刻对象进行灼刻处理的激光灼刻部件。根据本发明的间歇式激光灼刻装置还包括能够使挂钩部件在输送导轨上间歇地运动的控制机构。根据本发明的间歇式激光灼刻装置能够使输送链条连续地运转,从而不必对驱动输送链条运动的驱动机构进行反复的启动和停机,从而有利于延长输送链条的驱动机构的使用寿命。另外,根据本发明的激光灼刻装置使得激光灼刻部件具有足够的时间对灼刻对象进行激光灼刻,因此其能够实现良好的灼刻效果。还涉及一种间歇式激光灼刻方法。
Public/Granted literature
- CN104308373A 间歇式激光灼刻装置和间歇式激光灼刻方法 Public/Granted day:2015-01-28
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