- 专利标题: 一种逆向热蒸发银反射膜加介质保护膜层的制备方法
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申请号: CN201410614079.7申请日: 2014-11-04
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公开(公告)号: CN104328378B公开(公告)日: 2017-02-15
- 发明人: 裴文俊 , 刘洪祥
- 申请人: 中国科学院光电技术研究所
- 申请人地址: 四川省成都市双流350信箱
- 专利权人: 中国科学院光电技术研究所
- 当前专利权人: 中国科学院光电技术研究所
- 当前专利权人地址: 四川省成都市双流350信箱
- 代理机构: 北京科迪生专利代理有限责任公司
- 代理商 杨学明; 顾炜
- 主分类号: C23C14/26
- IPC分类号: C23C14/26 ; C23C14/18
摘要:
本发明提供一种逆向热蒸发银反射膜加介质保护膜的制备方法,采用的膜层序列为Sub/CrNx/Ag/CrNx/SiOx/Air,制备过程中所有的蒸发源位于镜面上方,逆向热蒸发;承载铬(Cr)材料的主要部件为钨杆,承载银(Ag)材料的主要部件为钨丝环,保护膜材料为一氧化硅(SiO),装载于钽蒸发舟中;在氮气(N2)环境中蒸发Cr形成CrNx,在氧气(O2)环境中蒸发SiO形成SiOx。本发明具有工艺简单、操作方便、设备与材料成本低的优点,能够规避大型光学元件翻面带来的风险。
公开/授权文献
- CN104328378A 一种逆向热蒸发银反射膜加介质保护膜层的制备方法 公开/授权日:2015-02-04
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