- 专利标题: 光子源、检查设备、光刻系统以及器件制造方法
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申请号: CN201380030523.4申请日: 2013-05-23
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公开(公告)号: CN104380203B公开(公告)日: 2017-09-08
- 发明人: H·柏莱曼斯 , G·范德祖克 , R·斯梅茨 , J·德维特 , P·安齐费罗夫 , V·克里夫特苏恩
- 申请人: ASML荷兰有限公司
- 申请人地址: 荷兰维德霍温
- 专利权人: ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人: ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址: 荷兰维德霍温
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 张启程
- 优先权: 61/658,654 20120612 US
- 国际申请: PCT/EP2013/060664 2013.05.23
- 国际公布: WO2014/000998 EN 2014.01.03
- 进入国家日期: 2014-12-10
- 主分类号: G03F7/20
- IPC分类号: G03F7/20 ; H05G2/00 ; G01N21/956 ; H01J65/04 ; H01J61/02 ; H01J61/54 ; H05B41/38
摘要:
一种激光驱动的光源,包括激光器(52)和聚焦光学装置(54)。这些产生聚焦在容器(40)内的等离子体形成区上的辐射束,其中所述容器包括气体(例如,氙气)。收集光学装置(44)收集由通过所述激光束保持的等离子体(42)发射的光子,以形成输出辐射束(46)。等离子体具有细长形状(L>d),并且收集光学装置被配置用于收集沿纵向从等离子体出射的光子。相比于收集沿横向从等离子体出射的辐射的源,等离子体的亮度被增大。由于增大的亮度,使用所述光源的量测设备可以获得较大的精确度和/或生产率。可以提供回射反射器。微波辐射可以被使用,代替激光辐射,以形成等离子体。
公开/授权文献
- CN104380203A 光子源、量测设备、光刻系统以及器件制造方法 公开/授权日:2015-02-25