发明公开
- 专利标题: 掩模板检测装置及方法、掩模板清洗装置
- 专利标题(英): Mask plate detector, mask plate detecting method and mask plate washing equipment
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申请号: CN201410789147.3申请日: 2014-12-17
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公开(公告)号: CN104391427A公开(公告)日: 2015-03-04
- 发明人: 黄俊淞 , 叶岚凯
- 申请人: 合肥鑫晟光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址: 安徽省合肥市新站区工业园内
- 专利权人: 合肥鑫晟光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人: 合肥鑫晟光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址: 安徽省合肥市新站区工业园内
- 代理机构: 北京银龙知识产权代理有限公司
- 代理商 许静; 黄灿
- 主分类号: G03F1/84
- IPC分类号: G03F1/84 ; G03F1/82
摘要:
本发明提供了一种掩模板检测装置及方法、掩模板清洗装置,通过设置用于对掩模板进行残留物检测并生成检测信息的检测模块;用于基于检测信息,确定检测结果的控制模块,所述检测结果用于标识所述掩模板的清洁度。从而可自动实现掩模板清洁度的检测,提高掩模板清洗效果检测效率、准确性和安全性。
公开/授权文献
- CN104391427B 掩模板检测装置及方法、掩模板清洗装置 公开/授权日:2019-07-05