• 专利标题: 一种大功率激光系统的等离子体激励源装置
  • 专利标题(英): Plasma excitation source device of high-power laser system
  • 申请号: CN201410622876.X
    申请日: 2014-11-08
  • 公开(公告)号: CN104409953A
    公开(公告)日: 2015-03-11
  • 发明人: 周开根
  • 申请人: 周开根
  • 申请人地址: 浙江省衢州市柯城区锦绣路兴华西苑小区12幢1单元401室
  • 专利权人: 周开根
  • 当前专利权人: 桐乡市腾飞家纺股份有限公司
  • 当前专利权人地址: 浙江省衢州市柯城区锦绣路兴华西苑小区12幢1单元401室
  • 主分类号: H01S3/09
  • IPC分类号: H01S3/09 H01S3/04 H01S5/04 H01S5/024
一种大功率激光系统的等离子体激励源装置
摘要:
一种大功率激光系统的等离子体激励源装置,涉及到一种等离子体激励源装置,由机座、阴极、螺旋导流器和阳极组件组成,机座的内层壁体构成冷却导流管,机座的中间层壁体构成阴极连杆,冷却导流管的管内空间构成冷却供水通道,阴极连杆的外壁与机座外层壁体之间的空间构成气室;螺旋导流器中,螺旋导流肋的螺距空间构成螺旋气流通道;阳极组件包括阳极套和阳极,阳极嵌入到阳极套的壁体之中;阴极连接在机座的阴极连杆前端,螺旋导流器的后端安装在机座的外层壁体上,阳极组件安装在螺旋导流器的前端,阴极的头部从阳极环体结构的环内空间伸出。本发明在放电现象下产生强烈弧光和高能电子束,作为大功率激光系统的激励源,使激光器的功率强大、结构简单。
公开/授权文献
0/0