Invention Grant
CN104428697B 微镜阵列、其制法以及用于该微镜阵列的光学元件
失效 - 权利终止
- Patent Title: 微镜阵列、其制法以及用于该微镜阵列的光学元件
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Application No.: CN201380036567.8Application Date: 2013-07-08
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Publication No.: CN104428697BPublication Date: 2016-10-12
- Inventor: 十二纪行
- Applicant: 日东电工株式会社
- Applicant Address: 日本大阪府
- Assignee: 日东电工株式会社
- Current Assignee: 日东电工株式会社
- Current Assignee Address: 日本大阪府
- Agency: 北京林达刘知识产权代理事务所
- Agent 刘新宇; 张会华
- Priority: 2012-157827 2012.07.13 JP; 2013-134994 2013.06.27 JP
- International Application: PCT/JP2013/068581 2013.07.08
- International Announcement: WO2014/010538 JA 2014.01.16
- Date entered country: 2015-01-08
- Main IPC: G02B5/08
- IPC: G02B5/08
Abstract:
本发明的微镜阵列的制法包括如下工序:准备透明的平板状的基板的工序;将基板安装于切割加工机的加工台的规定位置的工序;利用旋转刀在各基板的一表面以规定间隔依次形成多个相互平行的直线状槽的工序;将在一表面(表面)形成有所述直线状槽的基板以各基板的直线状槽的延伸方向在俯视时彼此正交的方式按下述(1)~(3)中任一重叠方法进行重叠的工序。(1)使一基板的表面与另一基板的背面对齐、重叠的重叠方法,(2)使各基板的表面彼此对齐、重叠的重叠方法,(3)使各基板的背面彼此对齐、重叠的重叠方法。由此,能够以低成本制造能够结成明亮且高亮度的图像的微镜阵列和光学元件。
Public/Granted literature
- CN104428697A 微镜阵列、其制法以及用于该微镜阵列的光学元件 Public/Granted day:2015-03-18
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