本发明公开了一种高发射率陶瓷涂层的制备方法，属于高发射率涂层制备领域。所述方法为：将原料NiO、Cr2O3、MnO2、TiO2混合均匀后，进行高温焙烧，然后加入分散剂和粘结剂，球磨制备浆料；将浆料进行喷雾造粒和热处理后，采用等离子喷涂的方法，先在基体表面喷涂粘结层，再在粘结层上喷涂陶瓷涂层。采用本发明所述方法得到的陶瓷涂层，在常温下，在整个红外波段的发射率可达0.88，高温下相结构稳定，涂层与基体的结合强度可达40MPa以上，且制备工艺简单，成本低廉。