本发明涉及一种静电吸盘及其供气方法，位于真空处理室内底部的静电吸盘，其直径等于或大于该静电吸盘固定支持的基片直径；利用位于静电吸盘边缘的气体通道将第二工艺气体输送到基片背面的边缘位置，并利用位于静电吸盘中心的气体通道将氦气或第二工艺气体输送到基片表面的中心位置进行传热冷却，由于第二工艺气体成分与输送到基片表面进行反应处理的第一工艺气体的成分相同或非常接近，能够确保第二工艺气体与第一工艺气体混合后的气体，不会改变处理基片边缘时的反应条件。因而本发明能够应用在尺寸更大的静电吸盘上，以便在基片上获得更好的温度分布效果。