发明授权
- 专利标题: 数字微镜器件的形成方法
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申请号: CN201310462456.5申请日: 2013-09-30
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公开(公告)号: CN104516102B公开(公告)日: 2017-02-08
- 发明人: 汪新学 , 倪梁 , 伏广才
- 申请人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
- 申请人地址: 上海市浦东新区张江路18号
- 专利权人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
- 当前专利权人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市浦东新区张江路18号
- 代理机构: 北京集佳知识产权代理有限公司
- 代理商 骆苏华
- 主分类号: G02B26/08
- IPC分类号: G02B26/08 ; B81C1/00
摘要:
一种数字微镜器件的形成方法,包括:提供形成有微镜器件控制电路的基底;在基底上形成第一牺牲层;在第一牺牲层上形成导电材料层、位于导电材料层上的介质材料层、及位于介质材料层上的图形化光刻胶层;以图形化光刻胶层为掩模,对介质材料层进行刻蚀,以形成铰链中的介质层;去除介质层上方的图形化光刻胶层之后,在介质层的周围形成侧墙;以介质层及侧墙为掩模,对导电材料层进行湿法刻蚀,以形成铰链中的导电层;形成导电层之后,去除侧墙。在湿法刻蚀以形成导电层的步骤中,由于介质层的周围形成有侧墙,可以减少导电层的刻蚀量,甚至使导电层不被刻蚀,因而加大了导电层对介质层施加的支撑力,使介质层不容易倒塌。
公开/授权文献
- CN104516102A 数字微镜器件的形成方法 公开/授权日:2015-04-15