发明授权
CN104540976B 透明氧化物膜形成用溅射靶及其制造方法
失效 - 权利终止
- 专利标题： 透明氧化物膜形成用溅射靶及其制造方法
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申请号： CN201380041837.4申请日： 2013-08-09
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公开(公告)号： CN104540976B公开(公告)日： 2017-02-22
- 发明人: 斋藤淳 , 张守斌 , 山口刚 , 近藤佑一
- 申请人： 三菱综合材料株式会社
- 申请人地址： 日本东京
- 专利权人： 三菱综合材料株式会社
- 当前专利权人： 三菱综合材料株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京
- 代理机构： 北京德琦知识产权代理有限公司
- 代理商 康泉; 王珍仙
- 优先权： 2012-178802 2012.08.10 JP 2013-150310 2013.07.19 JP
- 国际申请： PCT/JP2013/071670 2013.08.09
- 国际公布： WO2014/025017 JA 2014.02.13
- 进入国家日期： 2015-02-06
- 主分类号： C23C14/34
- IPC分类号： C23C14/34 ; C04B35/16 ; C04B35/453 ; G11B7/26
摘要：
本发明提供一种能够以直流溅射形成透明氧化物膜且不会产生异常放电的氧化锌系透明氧化物膜形成用溅射靶。该透明氧化物膜形成用溅射靶的特征在于，其为如下组成的烧成体，即相对于总金属成分量，含有0.6～8.0at％的Al及Ga中的任意一种或者两种，0.1at％以上的Si，且Al、Ga和Si共计含有33.0at％以下，残余部分由Zn及不可避免杂质构成，在所述烧成体中，存在具有5μm以下的粒径的Zn和Si的复合氧化物。
公开/授权文献
- CN104540976A 透明氧化物膜形成用溅射靶及其制造方法 公开/授权日：2015-04-22
IPC分类:
