Invention Grant
- Patent Title: 电镀铜厚的延时补偿方法和系统
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Application No.: CN201410831665.7Application Date: 2014-12-26
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Publication No.: CN104562122BPublication Date: 2016-12-07
- Inventor: 黄双双
- Applicant: 惠州市特创电子科技有限公司
- Applicant Address: 广东省惠州市白花镇太阳坳工业区
- Assignee: 惠州市特创电子科技有限公司
- Current Assignee: 惠州市特创电子科技有限公司
- Current Assignee Address: 广东省惠州市白花镇太阳坳工业区
- Agency: 广州华进联合专利商标代理有限公司
- Agent 吴平
- Main IPC: C25D7/12
- IPC: C25D7/12 ; C25D3/38 ; C25D21/12
Abstract:
本发明公开一种电镀铜厚的延时补偿方法和系统,所述方法包括如下步骤:测量待镀电路板的初始铜厚。对待镀电路板进行时间长度为预设时间t的镀铜。通过铜厚检测设备测量待镀电路板的当前铜厚。计算得到当前铜厚与预设铜厚的差值Hi,当Hi满足预设条件时镀铜完成,否则继续补充时间Ti的镀铜。计算得到当前铜厚与初始铜厚的差值Di。计算得到电镀效率值Qi。计算得到补充时间Ti。将待镀电路板再进行时间长度为补充时间Ti的镀铜。上述电镀铜厚的延时补偿方法通过修正计算电镀效率值Qi以计算得到补充时间Ti,并将待镀电路板再进行时间长度为补充时间Ti的镀铜,进行使得电镀铜层厚度更精确,更可控。
Public/Granted literature
- CN104562122A 电镀铜厚的延时补偿方法和系统 Public/Granted day:2015-04-29
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