Invention Grant
- Patent Title: 一种超宽带减反射膜及其制备方法
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Application No.: CN201510093499.XApplication Date: 2015-03-02
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Publication No.: CN104614787BPublication Date: 2016-01-13
- Inventor: 刘文成 , 刘学芬
- Applicant: 山东阳谷恒晶光电有限公司
- Applicant Address: 山东省聊城市阳谷县祥光经济开发区南北一路
- Assignee: 山东阳谷恒晶光电有限公司
- Current Assignee: 山东阳谷恒晶光电有限公司
- Current Assignee Address: 山东省聊城市阳谷县祥光经济开发区南北一路
- Agency: 济南金迪知识产权代理有限公司
- Agent 吕利敏
- Main IPC: G02B1/115
- IPC: G02B1/115 ; C23C14/06 ; C23C14/08
Abstract:
本发明涉及一种超宽带减反射膜，包括基体层，在基体层表面设有由MgF2膜层和TiO2膜层交替组成的多层膜结构，且靠近基体层表面的第一层及靠近空气界面的最外层均为MgF2膜层，所述多层膜结构的厚度为340-370nm。本发明实现了对400～800nm超宽波段可见光的高透射率，残余反射率低于0.2％，镀膜层数较少，简化了制造工艺，降低了制造成本。
Public/Granted literature
- CN104614787A 一种超宽带减反射膜及其制备方法 Public/Granted day:2015-05-13
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