本发明涉及一种用于半导体基片测量的聚焦系统与聚焦方法，包括：光路单元，用于发射指定的光束至待测物表面，并接收从待测物表面反射回来的光束，以形成聚焦信号；信号采集单元，与光路单元通信连接，用于采集聚焦信号；第一控制单元，分别与信号采集单元和光路单元通信连接，用于控制光路单元在垂直待测物表面方向上、处于待测物表面的正上方；第二控制单元，分别与信号采集单元和光路单元通信连接，用于基于聚焦信号，调整在垂直待测物表面方向上光路单元与待测物表面之间的距离。通过本发明的聚焦系统，可以快速并准确地对待测表面进行聚焦，从而可以执行半导体基片膜厚测量系统的后续工作。