发明授权
- 专利标题: 一种评价膜层附着力变化的设备和方法
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申请号: CN201510130546.3申请日: 2015-03-24
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公开(公告)号: CN104677823B公开(公告)日: 2018-05-29
- 发明人: 元敏 , 邢宏伟 , 刘桂林
- 申请人: 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址: 安徽省合肥市新站区铜陵北路2177号
- 专利权人: 合肥京东方光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人: 合肥京东方光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址: 安徽省合肥市新站区铜陵北路2177号
- 代理机构: 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- 代理商 彭瑞欣; 陈源
- 主分类号: G01N19/04
- IPC分类号: G01N19/04
摘要:
本发明公开了一种评价膜层附着力变化的设备和方法,所述膜层设置在第一基板上,所述第一基板上设置有所述膜层的一侧与第二基板相贴附,所述膜层被分割为多个单元。所述设备包括评价机台,所述评价机台包括相对设置的上固定机构和下固定机构,所述第二基板可拆卸地固定在所述上固定机构上,所述第一基板上未设置所述膜层的一侧可拆卸地固定在所述下固定机构上,所述评价机台还包括施力装置,所述施力装置能够向所述上固定机构和/或所述下固定机构施加预定值的外力。本发明能够准确评价膜层附着力随时间或外力变化的规律,同时,能够分析膜层在环境变化前后的附着力变化情况,评估产品在信赖性测试中出现不良的风险。
公开/授权文献
- CN104677823A 一种评价膜层附着力变化的设备和方法 公开/授权日:2015-06-03