Invention Grant
- Patent Title: 设有可提高对称性的导气装置的泵以及等离子处理装置
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Application No.: CN201310640011.1Application Date: 2013-12-04
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Publication No.: CN104701121BPublication Date: 2017-01-04
- Inventor: 陈妙娟 , 吴狄 , 何乃明 , 倪图强
- Applicant: 中微半导体设备(上海)有限公司
- Applicant Address: 上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号
- Assignee: 中微半导体设备(上海)有限公司
- Current Assignee: 中微半导体设备(上海)股份有限公司
- Current Assignee Address: 上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号
- Agency: 上海信好专利代理事务所
- Agent 张静洁
- Main IPC: H01J37/02
- IPC: H01J37/02 ; H01J37/32
Abstract:
本发明公开一种用于等离子处理装置的导气装置,其气路连通于泵与反应腔之间;导气装置包含:外壳,其设有上下连通的气道,该气道的上端气路连通反应腔,下端气路连通至泵;中心管道,其设置于外壳内的气道中,该中心管道上端气路连通反应腔,下端封闭;该中心管道内形成中心气道,中心管道与外壳之间形成外层气道;若干分隔结构,其由中心管道侧壁连接至外壳的内侧壁,将外层气道分隔成若干个相互连通的外层子气道,外层子气道气路连通泵。本发明导气装置设有分隔装置,可自补偿反应腔与/或泵中其他的不对称性,从而实现等离子处理装置的整体对称性。
Public/Granted literature
- CN104701121A 设有可提高对称性的导气装置的泵以及等离子处理装置 Public/Granted day:2015-06-10
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