发明授权
- 专利标题: 一种显示装置、阵列基板及其制作方法
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申请号: CN201510146216.3申请日: 2015-03-30
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公开(公告)号: CN104701303B公开(公告)日: 2018-02-02
- 发明人: 樊浩原 , 朱亚文
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京清亦华知识产权代理事务所
- 代理商 赵天月
- 主分类号: H01L23/60
- IPC分类号: H01L23/60 ; G02F1/133
摘要:
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示装置、阵列基板及其制作方法。该显示装置包括基板,以及位于基板上的源漏电极层,所述源漏电极层由低电阻材料制成;基板四周环绕设置防静电单元,所述防静电单元材料为重掺杂的低温多晶硅,所述防静电单元接地设置。本发明提供的显示装置、阵列基板及其制作方法,通过在基板四周环绕设置由重掺杂的低温多晶硅制作的防静电单元,由于重掺杂的低温多晶硅既具有一定的电阻性能,又具有导电性能,能够起到吸引电流、消耗电流、导走电流的作用,最大程度地保障阵列基板的电路安全,提高最终产品的质量品质。
公开/授权文献
- CN104701303A 一种显示装置、阵列基板及其制作方法 公开/授权日:2015-06-10
IPC分类: