用于生产结构化的微载体的方法
摘要:
本发明涉及一种用于生产微载体(1)的方法,该方法包含如下步骤:提供具有底层(16)、顶层和绝缘层(18)的晶片;构造顶层以在顶层的顶表面上限定至少一个三维结构(7a);蚀刻顶层以刻划微载体的本体(6)的侧壁(22);将连续的聚合物层应用到微载体的本体(6)的顶表面(4)上;移除底层(16)和绝缘层(18);构造微载体的本体(6)的底表面以在每个本体的底表面上限定至少一个三维结构;和移除聚合物层以释放微载体。
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