Invention Grant
- Patent Title: 一种生长方向可控制的水平CdS纳米线阵列的制备方法
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Application No.: CN201510097740.6Application Date: 2015-03-05
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Publication No.: CN104762608BPublication Date: 2017-07-25
- Inventor: 潘安练 , 祁朝阳 , 朱小莉
- Applicant: 湖南大学
- Applicant Address: 湖南省长沙市岳麓区麓山南路2号
- Assignee: 湖南大学
- Current Assignee: 湖南大学
- Current Assignee Address: 湖南省长沙市岳麓区麓山南路2号
- Agency: 长沙市融智专利事务所
- Agent 颜勇
- Main IPC: C23C16/30
- IPC: C23C16/30 ; C30B25/18 ; C30B29/62 ; C30B29/50 ; B82Y40/00
Abstract:
本发明涉及一种生长方向可控制的水平CdS纳米线阵列的制备方法,属于一维半导体纳米材料制备技术领域。本发明首次采用一种简单的方法实现了硫化镉纳米线方向的可控制生长,得到的纳米线长度可达到几十微米长,直径为100纳米左右。本发明的工艺技术简单,控制方便,便于大规模生产应用。同时本发明的所设计的工艺以及所制备的成品将在基本物理研究和纳米级功能器件的集成方面具有重要的应用价值。
Public/Granted literature
- CN104762608A 一种生长方向可控制的水平CdS纳米线阵列的制备方法 Public/Granted day:2015-07-08
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