发明授权
CN104766813B 准分子激光退火装置
失效 - 权利终止
- 专利标题: 准分子激光退火装置
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申请号: CN201510147761.4申请日: 2015-03-31
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公开(公告)号: CN104766813B公开(公告)日: 2017-09-26
- 发明人: 田雪雁
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- 代理商 彭瑞欣; 陈源
- 主分类号: H01L21/67
- IPC分类号: H01L21/67 ; H01L21/268
摘要:
本发明提供的准分子激光退火装置,包括工艺腔室、脉冲延长模块和激光器,激光器用于发射激光束;脉冲延长模块用于将该激光束的脉冲时间延长,并向设置在反应腔室内的基板输出延长后的脉冲激光;脉冲延长模块包括:至少两组脉冲延长偏向镜组,每组脉冲延长偏向镜组包括四个脉冲延长偏向镜,且各组脉冲延长偏向镜组的脉冲延长时间不同;驱动装置,用于驱动各组脉冲延长偏向镜组运动至光路通过位置或者偏离光路位置。本发明提供的准分子激光退火装置,其可以根据具体情况选择合适的脉冲延长时间,从而可以保证激光脉冲时间和激光工作能量均满足要求,进而可以提高多晶硅薄膜的生产稳定性及良率。
公开/授权文献
- CN104766813A 准分子激光退火装置 公开/授权日:2015-07-08
IPC分类: