本发明涉及电流管理(ECM)系统和方法。所述电流管理系统包括：至少一个电解槽，具有与电解介质接触的至少两个电极；多个传感器装置，用于测量通过一个或更多个电极的电流，所述传感器装置被定位在至少一个ECM条内部，所述至少一个ECM条被安装在一个或更多个工作电解槽中；支承装置，用于支承每个槽中的至少一个ECM条；其中，所述支承装置适于避免中断正常电极移动和对ECM条的损坏。本发明引入用于使几种类型的变量(例如磁场干扰、槽几何形状和接触配置)对电流测量的影响最小化的改进，以便提供通过每个电极的电流的可靠近似。本发明可以应用于构成电解沉积槽或电解精炼槽或者其它电解槽的每个阴极或阳极的实时监测。