Invention Grant
CN104797661B 多功能涂覆结构和用于形成该多功能涂覆结构的方法
失效 - 权利终止
- Patent Title: 多功能涂覆结构和用于形成该多功能涂覆结构的方法
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Application No.: CN201380059945.4Application Date: 2013-08-09
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Publication No.: CN104797661BPublication Date: 2018-02-27
- Inventor: 朴炳夏 , 朴秀袗 , 赵相镐 , 洪淳荣 , 黄仁吾
- Applicant: 三星电子株式会社 , 赵相镐 , 洪淳荣
- Applicant Address: 韩国京畿道水原市
- Assignee: 三星电子株式会社,赵相镐,洪淳荣
- Current Assignee: 三星电子株式会社,赵相镐,洪淳荣
- Current Assignee Address: 韩国京畿道水原市
- Agency: 北京铭硕知识产权代理有限公司
- Agent 王占杰; 韩明花
- Priority: 10-2012-0137540 2012.11.30 KR
- International Application: PCT/KR2013/007210 2013.08.09
- International Announcement: WO2014/084480 EN 2014.06.05
- Date entered country: 2015-05-15
- Main IPC: C09D5/14
- IPC: C09D5/14 ; B05D5/00 ; B32B7/00 ; G12B9/04
Abstract:
公开了包括形成在作为涂覆目标的物品与防指纹涂层之间的抗菌层的涂覆结构和用于形成该涂覆结构的方法，该涂覆结构用于改善防指纹涂层的耐久性、可靠性和耐腐蚀性并提供抗菌性。公开了形成在物品的表面上的涂覆结构，该涂覆结构包括形成在物品的表面上的抗菌层和形成在抗菌层上的防指纹涂层。
Public/Granted literature
- CN104797661A 多功能涂覆结构和用于形成该多功能涂覆结构的方法 Public/Granted day:2015-07-22
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IPC分类:
