发明公开
CN104877292A 用于电子器件的栅绝缘层
无效 - 撤回
- 专利标题: 用于电子器件的栅绝缘层
- 专利标题(英): Gate Insulator Layer For Organic Electronic Devices
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申请号: CN201510255678.9申请日: 2011-08-26
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公开(公告)号: CN104877292A公开(公告)日: 2015-09-02
- 发明人: D·C·穆勒 , T·库尔 , P·米斯基韦茨 , M·卡拉斯克-奥罗兹可 , A·贝尔 , E·埃尔斯 , L·F·罗迪斯 , 藤田一義 , H·恩格 , P·坎达纳拉什切 , S·史密斯
- 申请人: 默克专利股份有限公司 , 普罗米鲁斯有限责任公司
- 申请人地址: 德国达姆施塔特
- 专利权人: 默克专利股份有限公司,普罗米鲁斯有限责任公司
- 当前专利权人: 默克专利股份有限公司,普罗米鲁斯有限责任公司
- 当前专利权人地址: 德国达姆施塔特
- 代理机构: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理商 冯奕
- 优先权: 10009118.0 2010.09.02 EP; 61/379,799 2010.09.03 US
- 分案原申请号: 2011800425059 2011.08.26
- 主分类号: C08L45/00
- IPC分类号: C08L45/00
摘要:
根据本发明的实施方案提供了聚环烯烃在电子器件中的用途且更特别涉及这种聚环烯烃作为栅绝缘层在电子器件制造中的用途、包括这种聚环烯烃栅绝缘体的电子器件,以及用于制备这种聚环烯烃栅绝缘层和电子器件的方法。