一种沉积黑色导电膜层的设备及其使用方法
Abstract:
本发明涉及一种沉积黑色导电膜层的设备,包括一个真空腔体,在真空腔体内设置有一个圆环形的工件转架,在真空腔体的左右两侧设置有对称的两个与真空腔体一体化相连的凸腔,在凸腔内设置有用于放置钨靶及钛靶的料口和位于上下两个料口的气管,在右侧的凸腔上端设有一个与真空腔体一体化相连用于放置离子源的小凸腔。薄膜方块电阻100‑2000(Ω/□),膜厚1‑5um,颜色L=28‑40,a=‑0.3‑0.3,b=‑1‑1,硬度:600‑1500HV,耐腐蚀、耐候性,耐磨擦性能优异,完全能满足客户的要求。
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