发明授权
- 专利标题: 用于制作菲涅尔光栅的优化设计方法
-
申请号: CN201510225311.2申请日: 2015-05-05
-
公开(公告)号: CN104880753B公开(公告)日: 2018-07-20
- 发明人: 周倩 , 张锦超 , 李星辉 , 倪凯 , 逄锦超 , 胡海飞 , 董昊 , 王欢欢 , 朱祥文 , 王兰兰
- 申请人: 清华大学深圳研究生院
- 申请人地址: 广东省深圳市南山区西丽大学城清华校区
- 专利权人: 清华大学深圳研究生院
- 当前专利权人: 清华大学深圳研究生院
- 当前专利权人地址: 广东省深圳市南山区西丽大学城清华校区
- 代理机构: 深圳新创友知识产权代理有限公司
- 代理商 杨洪龙
- 主分类号: G02B5/18
- IPC分类号: G02B5/18 ; G02B27/00
摘要:
本发明公开了一种用于制作菲涅尔光栅的优化设计方法,包括以下步骤:(1)将菲涅尔光栅的菲涅尔面型等效为曲面面型,基于菲涅尔面型等效的曲面面型确定菲涅尔光栅的光程差函数:Φ(λ)=<AP1P2B>‑<AOB>+Nmλ,其中A点表示物点,B点表示像点,O点表示光栅的参考原点,P1为物点的光线在透镜表面的入射点,P2表示光线落在光栅上的点,λ表示波长,m表示衍射级次,N表示栅线分布函数,“<>”表示路径对应的光程;(2)确定使得所述光程差函数的函数值最小化的菲涅尔光栅参数,以用于制作具有消像差效果的菲涅尔光栅。按照本发明的方法,所制作的菲涅尔光栅能够有效消除菲涅尔光栅部分像差,提高光谱仪的分辨率。
公开/授权文献
- CN104880753A 用于制作菲涅尔光栅的优化设计方法 公开/授权日:2015-09-02