发明公开
- 专利标题: 半导体制造装置及半导体制造方法
- 专利标题(英): SEMICONDUCTOR MANUFACTURING DEVICE AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING METHOD
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申请号: CN201410409333.X申请日: 2014-08-19
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公开(公告)号: CN104900562A公开(公告)日: 2015-09-09
- 发明人: 广濑治
- 申请人: 株式会社东芝
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 株式会社东芝
- 当前专利权人: 东芝存储器株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京市中咨律师事务所
- 代理商 陈海红; 段承恩
- 优先权: 2014-045032 2014.03.07 JP
- 主分类号: H01L21/67
- IPC分类号: H01L21/67 ; H01L21/66
摘要:
本发明涉及半导体制造装置及半导体制造方法。根据实施方式,半导体制造装置具有第1载物台、第2载物台、移送单元及检测器。第1载物台对半导体芯片的位置进行修正。第2载物台对安装半导体芯片的对象物进行支持。移送单元将从第1载物台提举的半导体芯片向第2载物台进行移送。检测器对来自半导体芯片的弹性波进行检测。检测器安装于第1载物台及第2载物台的至少一方。
公开/授权文献
- CN104900562B 半导体制造装置及半导体制造方法 公开/授权日:2018-02-06
IPC分类: