Invention Publication
- Patent Title: 一种降膜式连续化制备酰氧基硅烷的方法
- Patent Title (English): Falling film continuous preparation method of acyloxysilane
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Application No.: CN201510247885.XApplication Date: 2015-05-15
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Publication No.: CN104926856APublication Date: 2015-09-23
- Inventor: 袁发强
- Applicant: 湖北环宇化工有限公司
- Applicant Address: 湖北省仙桃市新里仁口仙洪公路9号
- Assignee: 湖北环宇化工有限公司
- Current Assignee: 湖北环宇化工有限公司
- Current Assignee Address: 湖北省仙桃市新里仁口仙洪公路9号
- Main IPC: C07F7/18
- IPC: C07F7/18

Abstract:
本发明提供一种降膜式连续化制备酰氧基硅烷的方法,氯硅烷和冰醋酸通过加热的石墨降膜蒸发器组,在液态膜的方式下反应,同时生成的HCL气体从薄膜迅速蒸发。避免了因HCL停留在系统中引起的副反应和长时间高温引起的热分解,实现了在低温无溶剂的条件下制备高产率高品质的酰氧基硅烷。
Public/Granted literature
- CN104926856B 一种降膜式连续化制备酰氧基硅烷的方法 Public/Granted day:2018-10-30
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