发明授权
- 专利标题: 成膜装置以及成膜方法
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申请号: CN201510131930.5申请日: 2015-03-25
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公开(公告)号: CN104947067B公开(公告)日: 2017-08-22
- 发明人: 中岛直人 , 羽田浩二 , 吉野裕文
- 申请人: 斯克林集团公司
- 申请人地址: 日本国京都府京都市
- 专利权人: 斯克林集团公司
- 当前专利权人: 斯克林集团公司
- 当前专利权人地址: 日本国京都府京都市
- 代理机构: 隆天知识产权代理有限公司
- 代理商 宋晓宝; 向勇
- 优先权: 2014-061730 20140325 JP
- 主分类号: C23C16/27
- IPC分类号: C23C16/27 ; C23C16/458 ; C23C16/44
摘要:
本发明提供一种能够提高类金刚石膜的成膜效率的成膜装置以及成膜方法。成膜装置(10)具有:腔室(1),在内部形成有处理空间(V);低电感的电感耦合式天线(21),配置于处理空间(V);高频电力供给部(24),向电感耦合式天线(21)间歇性地供给高频电力;气体供给部(3),向处理空间(V)供给含有碳氢化合物的气体;相对移动部(4),使作为成膜的对象物的基体材料(9)相对于电感耦合式天线(21)移动;电压施加部(5),在暂时停止向电感耦合式天线(21)供给高频电力的时间段,向基体材料(9)施加负电压。
公开/授权文献
- CN104947067A 成膜装置以及成膜方法 公开/授权日:2015-09-30
IPC分类: