- 专利标题: 离子注入装置、最终能量过滤器以及离子注入方法
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申请号: CN201510104494.2申请日: 2015-03-10
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公开(公告)号: CN104952681B公开(公告)日: 2018-06-19
- 发明人: 八木田贵典
- 申请人: 斯伊恩股份有限公司
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 斯伊恩股份有限公司
- 当前专利权人: 斯伊恩股份有限公司
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 永新专利商标代理有限公司
- 代理商 徐殿军
- 优先权: 2014-067156 2014.03.27 JP
- 主分类号: H01J37/317
- IPC分类号: H01J37/317
摘要:
本发明提供一种能够广泛使用的离子注入装置及离子注入方法。本发明的最终能量过滤器(400)具备入口侧单透镜(304)、中间电极部(401)及出口侧单透镜(308)。最终能量过滤器(400)具备FEF电源部(414),该FEF电源部构成为分别单独向入口侧单透镜(304)、中间电极部(401)及出口侧单透镜(308)施加电压。FEF电源部(414)分别向上游辅助电极部(402)、偏转电极部(306)及下游辅助电极部(404)施加电压,以使上游辅助电极部(402)与偏转电极部(306)之间的第1区域中的离子束的能量范围和偏转电极部(306)与下游辅助电极部(404)之间的第2区域中的离子束的能量范围成为相同程度。
公开/授权文献
- CN104952681A 离子注入装置、最终能量过滤器以及离子注入方法 公开/授权日:2015-09-30