本发明公开一种气相蚀刻装置。根据本发明一实施例的气相蚀刻装置包括：处理腔室，其设置有内部空间，所述内部空间由上侧开放的腔室主体和与腔室主体的上侧能够装卸地结合，并且下侧开放的圆顶形状的上部圆顶形成；基板支撑座，其设置在内部空间，利用驱动部向上向下移动；环板，其设置在基板支撑座上，覆盖基板支撑座和处理腔室的外壁之间，以使内部空间划分为基板支撑座的上部的处理区域和基板支撑座的下部的排气区域；由环板划分的处理区域被上部圆顶包围，排气区域被腔室主体包围。