光学防伪元件及其制造方法
摘要:
本发明公开了一种光学防伪元件及其制造方法,该方法包括:在基材(1)上形成起伏结构层(2),该起伏结构层(2)至少包括具有第一起伏结构的第一区域和与该第一区域相邻的具有第二起伏结构的第二区域,其中该第二起伏结构具有与所述基材(1)平面的夹角大于45度的侧壁,且该第二起伏结构的深宽比小于0.3;在所述起伏结构层(2)上形成镀层(3);以及将所述镀层(3)置于去镀层环境中,直到所述第二区域上的镀层(3)从所述起伏结构层(2)剥离为止。
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