Invention Grant
- Patent Title: 涂有低辐射多层的基底
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Application No.: CN201480010838.7Application Date: 2014-02-25
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Publication No.: CN105026330BPublication Date: 2018-11-09
- Inventor: J.斯特恩许 , J.哈根
- Applicant: 法国圣戈班玻璃厂
- Applicant Address: 法国库伯瓦
- Assignee: 法国圣戈班玻璃厂
- Current Assignee: 法国圣戈班玻璃厂
- Current Assignee Address: 法国库伯瓦
- Agency: 中国专利代理(香港)有限公司
- Agent 段家荣; 杨思捷
- Priority: 1351729 2013.02.27 FR
- International Application: PCT/FR2014/050392 2014.02.25
- International Announcement: WO2014/131980 FR 2014.09.04
- Date entered country: 2015-08-27
- Main IPC: C03C17/34
- IPC: C03C17/34 ; C08J7/00
Abstract:
本发明涉及包含在其至少一个面的至少一部分上涂有薄膜多层的基底(1)的材料,所述薄膜多层包含至少两个基于透明导电氧化物的膜(2,3),所述膜通过至少一个电介质中间膜(4)分隔,所述电介质中间膜的物理厚度为最多50纳米,在所述基于透明导电氧化物的膜(2,3)之间没有沉积金属膜,所述多层进一步包含在距离基底(1)最远的基于透明导电氧化物的膜(2)之上的至少一个氧阻隔膜(6),各个基于透明导电氧化物的膜(2,3)具有20至80纳米的物理厚度。
Public/Granted literature
- CN105026330A 涂有低辐射多层的基底 Public/Granted day:2015-11-04
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