本发明的实施方式提供用于在基板上沉积层的方法及设备。在一个实施方式中，该方法包括将设置在处理腔室内的基板的表面暴露于流体前驱物；把产生自辐射源的电磁辐射引导至光扫描单元，使得电磁辐射在基板的整个表面上被偏转及被扫描，材料层待形成于该基板的该表面上；及用具有一种波长的电磁辐射来开始沉积处理，该波长被选择为用于流体前驱物的光解解离，以将材料层沉积至基板表面上。辐射源可包括激光源、明亮的发光二极管(LED)源、或热源。在一个实例中，辐射源是光纤激光器，该光纤激光器产生紫外线(UV)波长范围内的输出。