发明授权
- 专利标题: 一种基于多曝光程序的多硅片循环运动方法
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申请号: CN201510488878.9申请日: 2015-08-11
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公开(公告)号: CN105093849B公开(公告)日: 2017-06-23
- 发明人: 李文亮 , 吴鹏 , 陈力钧 , 朱骏 , 莫少文
- 申请人: 上海华力微电子有限公司
- 申请人地址: 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号
- 专利权人: 上海华力微电子有限公司
- 当前专利权人: 上海华力微电子有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号
- 代理机构: 上海天辰知识产权代理事务所
- 代理商 吴世华; 陈慧弘
- 主分类号: G03F7/20
- IPC分类号: G03F7/20
摘要:
本发明公开了一种基于多曝光程序的多硅片循环运动方法,包括以下步骤:首先将硅片盒内的单枚硅片传送至硅片载片台;接着对传送至硅片载片台上的硅片进行预设轮数的循环曝光;然后将循环曝光后的硅片传回至硅片盒;最后对硅片盒内的下一枚硅片进行预设轮数的循环曝光,直至硅片盒内的硅片全部完成循环曝光。本发明通过改变硅片的循环曝光顺序,减少了硅片传送占用机台的时间,同时具有更好的带走超纯水中微粒的效果,使超纯水中的微粒聚集在单枚硅片上至饱和状态,使超纯水中的微粒越来越少;同时,通过减少硅片的曝光面积,可以减少各曝光影像所产生的平坦度结果文件的大小,解决了由于平坦度结果文件过大而导致机台宕机的问题。
公开/授权文献
- CN105093849A 一种基于多曝光程序的多硅片循环运动方法 公开/授权日:2015-11-25